本储罐适用于半导体光刻及显影工艺中常用溶剂丙二醇甲酯醋酸酯（PGMEA）的密闭储存。产品采用优质PPH材质加工，内表面平整，耐有机溶剂渗透性良好。储罐结构针对该溶剂的理化特性进行了优化设计，配备完善的液位监控、进出料防静电接地及排气密闭接口，确保物料在存储周期内的纯度与安全性，是半导体厂务系统有机化学品供应的核心单元之一。
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推荐材质均聚聚丙烯(PPH)工业级/高纯级板材
规格边界容积: 1-30m³; 设计压力: 常压
典型场景半导体光刻制程显影液/稀释剂存储、黄光区有机化学品供应
询价需提供介质、浓度、温度、流量/容积、安装空间、接口位置、图纸或现场照片