半导体专用

PPH光刻剥离槽

PPH光刻剥离槽用于光刻胶剥离、药液浸泡及后段冲洗配置,可根据工艺设置加液、排放、循环过滤、溢流和槽盖接口

PPH光刻剥离槽

PPH光刻剥离槽用于光刻胶剥离、药液浸泡及后段冲洗配置,可根据工艺设置加液、排放、循环过滤、溢流和槽盖接口。PPH槽体具有耐酸碱、耐水解和焊接成型灵活等特点,适合多种湿法设备集成。若剥离体系含有NMP、DMSO等有机溶剂或高温强氧化清洗液,应进行材料相容性验证,避免超出PP使用温度边界。

推荐材质PPH均聚聚丙烯焊接
规格边界实验至量产槽体
典型场景光刻胶剥离与药液浸泡
询价需提供介质、浓度、温度、流量/容积、安装空间、接口位置、图纸或现场照片